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现代军用电子装备正在向短、小、轻、薄、快等方向发展,实现集成化、小型化、轻量化更为关键。相应地,在现代军用电子装备中占有重要位置的高密度微波组件,对电子封装材料提出了越来越高的要求。传统的封装材料——Cu、Al、Kovar、W、Mo等,由于存在密度较大或热膨胀系数与半导体芯片不匹配的等不足,严重制约了微波组件的性能和可靠性的提高。铝碳化硅复合材料(其中63%~70%SiC)由于具有密度小、导热率高、热膨胀系数与LTCC或半导体芯片相匹配等突出优点,在欧美一些国家被广泛用作微波组件外壳。

  由于铝碳化硅复合材料含碳化硅颗粒、其焊接性能较差,且在焊接过程中容易氧化,必须在其表面镀覆一层可焊性镀层,才能满足高性能微波组件封装的需求。该镀层既要与复合材料基体结合牢固,其自身又必须具有耐高温、抗氧化等特性,还要与焊料润湿良好。镍层打底,再在镍层上电镀金的镀层体系是一个很好的选择,国外通常采用这种方法。

  目前,铝碳化硅复合材料分为两类,一类是均质复合材料,即碳化硅颗粒均匀的分布在铝合金中;另一类是梯度材料,比如在铝碳化硅复合材料表面制成一层铝合金。对于均质复合材料,由于其中碳化硅含量较高(63%~70%),直接按常用Al合金化学镀镍的方法较困难,需要采用预先加强的粗化、活化,然后化学镀镍的方法才可行。  对于梯度材料,如美国CPS公司的产品,复合材料表面有一薄层铝合金,可以直接采用常用的铝合金化学镀镍的方法制作稳定可靠的镀层。

  国内,应该说铝碳化硅复合材料是一个新兴的材料,有多家单位已经开展研究工作,有的已经可以小批量供货。国内材料主要是均质的复合材料,梯度材料目前尚无厂家可以生产。对于表面镀覆,也有采用化学镀镍、电镀金类似方法的研究报导。由于国内在铝碳化硅复合材料的加工制作方面还不是太成熟,均匀性欠佳,加之复合材料中SiC含量高达70%,导致表面化学镀镍、电镀金易出现化学镀镍层附着力不好引起的起泡现象,成品率不高,质量不稳定。

  针对以上的分析,我们根据铝碳化硅复合材料的特殊性,提出用真空镀膜的方法制作便于后续可焊性镀层制作的种子层。真空镀膜的方法可以保证铝碳化硅复合材料表面均匀覆盖一层金属,且在真空环境下经过等离子轰击清洗,膜层附着力容易保证。
具体的工艺流程为:丙酮、酒精超声→化学粗化→碱蚀→去灰→溅射钛铜→电镀镍→电镀金。

  实践证明,该方法可靠性高,可重复性好,已用于某产品的生产,质量稳定。

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铝碳化硅热沉材料介绍  (2009/03/16 21:27)
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摘要: 1   引言 随着科学技术的不断发展和进步, 许多新型装 备都对整体工作性能和各项综合技术指标提出了愈 来愈高的要求, 特别是航空航天领域和军工领域以 及特种行业, 对产品的整体工作性能和各项综合技 术指标的要求更加苛刻和严格。为了满足产品的特 殊要求, 对产品中所使用的材料也往往提...
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丝锥及攻丝技术的新发展  (2008/12/11 22:45)
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